中國不僅現(xiàn)在不能夠做3nm的光刻機，甚至在未來相當(dāng)長的一個時段內(nèi)也無法做出3nm的光刻機。一方面是源于自身技術(shù)實力的問題，畢竟我國芯片領(lǐng)域起步較晚，有很多難題仍需去攻克;一方面是美國對于我國的打壓限制，對于高端科技、核心技術(shù)完全封閉，想要跨越美國的這道障礙困難重重。在現(xiàn)有的技術(shù)模式之下，很難獲得技術(shù)上的突破，另辟蹊徑改變技術(shù)模式，或許還有彎道超車的可能。

　　很多人看到華為能夠研發(fā)出5nm工藝制程的芯片，便以為我國具備生產(chǎn)5nm，甚至是3nm工藝制程的光刻機，這里面存在一定的認(rèn)識誤差。簡答的聊聊芯片的生產(chǎn)過程，一個是芯片架構(gòu)上的選擇，例如桌面級處理器使用英特爾的X86架構(gòu)，移動端多使用ARM公司的ARM架構(gòu);一個是在芯片架構(gòu)之上的研發(fā)公司，例如蘋果、三星、華為、高通、聯(lián)發(fā)科等;一個是芯片生產(chǎn)代工廠，例如臺積電、中芯國際等。代工廠生產(chǎn)芯片需要使用到光刻機，就涉及到光刻機的生產(chǎn)公司。

　　掌握了高端光刻機生產(chǎn)的公司為荷蘭的ASML公司，臺積電之所以能夠為華為代工5nm工藝制程的芯片，正是因為使用了荷蘭ASML公司的EUV光刻機，臺積電也是荷蘭ASML公司的股東之一。中芯國際也從荷蘭ASML公司訂購了一臺EUV光刻機，無奈美國從中作梗，導(dǎo)致荷蘭遲遲不肯下發(fā)這臺光刻機的通行證。國內(nèi)光刻機生產(chǎn)較為先進(jìn)的公司是上海微電子裝備公司，該公司最先機的光刻機系列，當(dāng)前只能夠生產(chǎn)90nm工藝制程的芯片，只屬于中低端光刻機。

　　光刻機生產(chǎn)不僅涉及核心技術(shù)，各個零部件的精密程度也會影響產(chǎn)品精度。即便是荷蘭ASML公司也無法憑借一己之力造出高端的光刻機，而是通過收購、入股等方式吸納其他的優(yōu)秀企業(yè)。例如光刻機的高端鏡頭是由德國蔡司提供，光源是由美國CYMER公司提供(最終被ASML公司收購)。我國光刻機的發(fā)展處處受制于人，從其他公司購買高端硬件的可能性幾乎為零，其中的難度可想而知。另外，美國已經(jīng)禁止臺積電繼續(xù)為華為生產(chǎn)高端的5nm、7nm工藝制程的芯片，特別是與5G相關(guān)的芯片。種種跡象表明，美國對我國采取高端禁止，中低端放行的策略。

      如果一味的延續(xù)美國的技術(shù)進(jìn)行發(fā)展，或?qū)⒂罒o出頭之日，畢竟美國已經(jīng)將前進(jìn)的道路堵死。例如當(dāng)前的IPv4根域名服務(wù)器已經(jīng)被美國壟斷，我國主推的IPv6根域名服務(wù)器未來才會有翻身的機會。既然原有的光刻機技術(shù)無法突破，不如另起爐灶，研發(fā)新的芯片生產(chǎn)技術(shù)。